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當(dāng)前位置：首頁(yè)產(chǎn)品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設(shè)備

  • AT-LT大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD

    大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開(kāi)發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應(yīng)，即依次將前驅(qū)體引入到基底上，每次循環(huán)形成一層原子級(jí)薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無(wú)缺陷且可重復(fù)的超薄薄膜，從光滑表面到復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實(shí)現(xiàn)。

    更新時(shí)間：2025-06-20
    產(chǎn)品型號(hào)：AT-LT
    瀏覽量：51
  • AT 200M臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱

    市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

    更新時(shí)間：2025-06-05
    產(chǎn)品型號(hào)：AT 200M
    瀏覽量：1077
  • PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)

    PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)，PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LED、激光和3D對(duì)象，例如透鏡、光學(xué)器件、珠寶、硬幣和醫(yī)療植入物

    更新時(shí)間：2024-11-18
    產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN R-200
    瀏覽量：491
  • PICOSUN R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)

    PICOSUN™R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場(chǎng)的，在擁有百用戶

    更新時(shí)間：2024-11-18
    產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN R-200
    瀏覽量：399
  • PICOSUN P-300B型原子層沉積系統(tǒng)

    PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物

    更新時(shí)間：2024-11-18
    產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN P-300B型
    瀏覽量：350
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