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  • ScIDre HKZ高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐

    德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達(dá)300bar,甚至10-5mbar的高真空

    更新時(shí)間:2024-11-18
    產(chǎn)品型號(hào):ScIDre HKZ
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